合成与制备

生产厂家:中科院沈阳科仪
购置日期:2008年  
原   值:70万元 
主要指标:真空系统:极限真空为5.0×10-4Pa,漏放:5 Pa/12h;
      沉积系统:工作压强0.3~10Pa,功率密度5~10W/cm2;工作电压<1000V
用  途:可用于特殊金属表面及各种基材的镀膜制备及各种装饰膜、半导体膜、介质膜的表面处理
样品要求:各种形状、质地的固体材料
联系电话:0931-4968236