合成与制备

生产厂家:北京实力源科技开发有限责任公司
购置日期:2006年 
原  值:250万元 
主要指标:真空镀膜室尺寸:Ф800×1000mm;本底真空度:2.6×10-3Pa;温度控制:0-400℃;射频功率:0-5000W连续可调;溅射电流:0-30A连续可调
用  途:镀膜机集成了非平衡磁控溅射、射频等离子体增强化学气相沉积、离子源沉积等技术,能够连续批量生产多种减摩、抗磨、防护以及装饰等功能薄膜与涂层
样品要求: 无
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