合成与制备

生产厂家:研制
购置日期:2005年
原  值:160万元
主要指标:真空室尺寸:¢900 mm×700 mm,可镀工件最大尺寸:¢200 mm×200 mm,极限真空度:8×10-5Pa。
      设备具有以下五种镀膜/辅助镀膜功能:1.等离子体化学气相沉积;2.阴极磁过滤弧(2个);
     3.磁控溅射镀膜(孪生靶,2个);4.冷阴极气体离子辅助沉积;5.金属离子注入掺杂
用  途:沉积各种硬质减摩抗磨薄膜
样品要求:
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